盛吉盛申请真空腔室压力平衡装置专利，显著减小压力差对低压腔体的冲击

金融界2025年5月2日消息，国家知识产权局信息显示，盛吉盛（宁波）半导体科技有限公司申请一项名为“一种真空腔室压力平衡装置”的专利，公开号CN119905431A，申请日期为2025年1月。

专利摘要显示，本申请属于真空技术领域，公开一种真空腔室压力平衡装置，包括：平衡连接通道，连接在工艺腔室与传输腔室之间，并且，平衡连接通道比狭缝阀所控制的工艺腔室与传输腔室之间的工艺连接通道横截面小；隔离阀，安装在所述平衡连接通道上，若传输腔室与工艺腔室的压力差小于预设阈值，则狭缝阀打开所述工艺连接通道，进行晶圆传输，若所述压力差大于等于预设阈值，则隔离阀打开所述平衡连接通道，直至所述压力差小于预设阈值，然后狭缝阀打开工艺连接通道进行晶圆传输。本申请可以在狭缝阀打开前，首先平衡传输腔体和工艺腔体的压力，可以显著减小由压力差造成的对低压腔体的冲击。

天眼查资料显示，盛吉盛（宁波）半导体科技有限公司，成立于2018年，位于宁波市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本12222.0052万美元。通过天眼查大数据分析，盛吉盛（宁波）半导体科技有限公司共对外投资了12家企业，参与招投标项目48次，财产线索方面有商标信息56条，专利信息231条，此外企业还拥有行政许可10个。

本文源自：金融界

作者：情报员