云在上半导体申请半导体制造过程中废气处理系统专利，降低占地面积

金融界2025年4月9日消息，国家知识产权局信息显示，深圳市云在上半导体材料有限公司申请一项名为“半导体制造过程中废气处理系统”的专利，公开号 CN 119778733 A，申请日期为2025年1月。

专利摘要显示，本发明提供了半导体制造过程中废气处理系统，包括反应室；还包括：喷淋水洗机构，喷淋水洗机构包围至反应室的外周面上，喷淋水洗机构内设置有螺旋型的喷淋通道以及冷却腔，喷淋通道用于半导体废气的流通，喷淋通道底端与反应室底端连通；冷却腔位于喷淋通道和反应室外壁之间；接水池，接水池设置在喷淋通道的底部，接水池连接有高压水泵；加热器，加热器设置在反应室内，加热器连接有驱动机构，加热器的下方设置有与反应室底端连通的出口管，出口管的一侧设置有侧开口，侧开口的一侧设置有与高压水泵连接的冲洗组件。通过喷淋水洗机构包围反应室，其可为废气提供喷淋水洗外，还可作为反应室的隔热结构，同时使整体结构紧促，降低占地面积。

天眼查资料显示，深圳市云在上半导体材料有限公司，成立于2023年，位于深圳市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本5000万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳市云在上半导体材料有限公司共对外投资了2家企业，财产线索方面有商标信息1条，专利信息10条，此外企业还拥有行政许可2个。

本文源自：金融界

作者：情报员