北方华创申请半导体工艺设备及其源瓶装置专利，提高晶圆表面生长薄膜厚度均匀性

金融界2025年5月7日消息，国家知识产权局信息显示，北京北方华创微电子装备有限公司申请一项名为“半导体工艺设备及其源瓶装置”的专利，公开号CN119913484A，申请日期为2023年10月。

专利摘要显示，本申请提供一种半导体工艺设备及其源瓶装置，源瓶装置包括瓶体，位于瓶体内的隔板和自动补液机构；隔板由瓶体的底部延伸至顶部将瓶体内部分隔成第一腔和第二腔；第一腔设有进气口和出气口，进气口用于通入载气，出气口用于连接半导体工艺设备的工艺腔室，以向工艺腔室输出携带有气态源的载气，第二腔用于储存液态源；隔板在与瓶体的底部相距预设距离处设有的补液孔，补液孔连通第一腔和第二腔。自动补液机构能够根据第一腔中液态源的液位自动补液，使第一腔中液态源始终接保持在预设液位附近。因而第一腔中气态源所占据的空间也保持不变，保证了载气携带的气态源的量保持稳定，进而提高了晶圆表面生长的薄膜厚度的均匀性。

天眼查资料显示，北京北方华创微电子装备有限公司，成立于2001年，位于北京市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本114153.708311万人民币。通过天眼查大数据分析，北京北方华创微电子装备有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目1032次，财产线索方面有商标信息61条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可340个。

本文源自：金融界

作者：情报员